Википедија

Податотека:Locos (microtechnology) process.svg

Изворна податотека (SVG податотека, номинално 512 × 796 пиксели, големина: 27 КБ)

Врска до Ризницата Ова е податотека од Ризницата на Викимедија и може да се користи на други проекти. Подолу е наведена содржината на нејзината описна страница.
Заедничката ризница е складиште на слободно-лиценцирани слики и снимки. И Вие можете да помогнете.

Опис

Опис
English: The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures.

I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, nitride mask IV. Etching of nitride layer and silicon oxide layer V. Thermal growth of silicon oxide VI. Furhter growth of thermal silicon oxide VII. Removal of nitride mask

1) Si, silicon substrate 2) SiO2, pad/buffer oxide, chemical vapor deposition silicon oxide 3) Si3N4, nitride mask

4) SiO2, isolation oxide, thermal oxide
Датум
Извор сопствено дело
Автор Twisp

Лиценцирање

Public domain Јас, праводржецот на ова дело, го предавам истото во јавна сопственост. Ова важи за целиот свет.
Во извесни земји ова не е правно изводливо. Во тој случај:
Дозволувам секому да го користи делово за каква било цел, без какви било услови, освен ако такви услови не ги налага законот.

Описи

Опишете во еден ред што претставува податотекава

Предмети прикажани на податотекава

прикажува

создадено

19 јануари 2008

висина

796 пиксел

ширина

512 пиксел

Историја на податотеката

Стиснете на датум/време за да ја видите податотеката како изгледала тогаш.

Датум/времеМинијатураДимензииКорисникКоментар
тековна20:02, 14 декември 2009Минијатура на верзијата од 20:02, 14 декември 2009512 × 796 (27 КБ)Cepheidensome fixes
17:53, 19 јануари 2008Минијатура на верзијата од 17:53, 19 јануари 2008625 × 1.000 (56 КБ)Twisp{{Information |Description= {{en|The image illustrates the LOCOS technology used in microfabrication mostly to create isolating structures. I. Preparation of silicon substrate II. CVD deposition of SiO2, pad/buffer oxide III. CVD deposition of Si3N4, ni

Податотекава се користи во следнава страница:

Глобална употреба на податотеката

Оваа податотека ја користат и следниве викија:

Преземено од „https://mk.wikipedia.org/wiki/Податотека:Locos_(microtechnology)_process.svg“